Gruppo
Tokuyama Corporation, la nostra società madre, ha 90 anni di storia come produttore chimico diversificato. Azienda quotata allo Stock Exchange di Tokio, vanta tra i più evoluti laboratori di ricerca e sviluppo del settore.
Nel corso degli anni la gamma di prodotti si è ampliata per includere un ampio numero di prodotti chimici speciali, compresi quelli dentali.
Questo dipartimento è divenuto noto come Tokuyama Dental Corporation.
Tokuyama ha iniziato lo sviluppo e la produzione materiale odontoiatrico 30 anni fa. Tokuyama Dental Corporation ha la filosofia e la mission di creare prodotti sempre innovativi e di qualità e fornisce sempre soluzioni nuove per il dentista. Le nostre tecnologie chimiche innovative, che sono ereditate dalla nostra società madre, continuano a crescere autonomamente.
Come noi motiviamo noi stessi per diventare leader di settore attuali e futuri, il nostro pensiero è sempre in avanti e i ricercatori stanno sviluppando sempre nuove tecnologie per rivoluzionare l'industria dentale globale.
Tokuyama Dental Corporation ha stabilito un record con i suoi ribasanti , Rebase, Rebase II e Sofreliner.
Questi prodotti detengono la maggioranza delle quote di mercato nelle loro categorie. Siamo produttori di prodotti di conservativa quali adesivi, compositi e cementi. Il lancio nel 2007 dell’adesivo self-etching “Bond Force” ha portato Tokuyama dental al Top Award per gli adesivi di 7a generazione supportato e motivato dalla rivista “Dental Advisor”.
Nel 2008 è stato lanciato nel mercato mondiale il nostro nuovo super composito Estelite Sigma Quick, uno dei più innovativi, tecnologici e estetici nella sua categoria.
Tokuyama Dental Corporation e Tokuyama Dental Italy sono impegnate nel fornire assistenza al cliente e nel promuovere i propri prodotti nel territorio di competenza tramite una rete di rivenditori esclusivi e preparati.
Filiali in Giappone:
Osaka
Sapporo
Sendai
Nagoya
Fukuoka
Mondo:
Tokuyama America Inc.
Tokuyama Europe GmbH
Tokuyama Dental Deutschland GmbH
Tokuyama Dental Italy S.r.l.
